助力半导体 ｜钢研纳克Plasma 3000提供高纯碳化硅检测新方案

1. 无特殊说明，本标准中试验所用水为GB/T 6682-2008中规定的一级水。

2. 盐酸：优级纯，ρ =1.19 g/mL；

3. 硝酸：优级纯，ρ =1.50 g/mL；

4. 硫酸：优级纯，ρ =1.84 g/mL；

5. 氢氟酸：优级纯，ρ =1.15 g/mL；

6. Ca、Mg、Fe、Al各元素的标准溶液（浓度为1000μg/mL）：为国家有证标准样品，可保存1年；

7. 塑料容量瓶：50mL；

8. 注射器；

9. 水相滤膜0.45μm；

10. 刻度吸管：3mL、10mL；

11. 微量移液器：10~100μL、100~1000μL、1000~5000μL；

12. 氩气：质量分数≥99.995%；

13. 电子天平：感量为0.0001g。

称取适量试样于聚四氟乙烯烧杯中，用少量水润湿，加一定量硝酸，再加入（1+1）硫酸数滴和少量氢氟酸，将聚四氟乙烯烧杯置于电热板上蒸发至三氧化硫白烟冒尽，取下稍冷，加一定体积（1+1）盐酸，于电热板上加热15min使表面杂质溶解，稍冷，收集于50mL容量瓶中，冷却后稀释至刻度，摇匀，待测。

取用各元素标准溶液。按照表1浓度进行标准曲线配置：

表1 标准曲线浓度

在测试前把仪器调节到最佳状态。

采用钢研纳克Plasma 3000双向观测全谱电感耦合等离子体发射光谱仪进行高纯碳化硅材料分析，所建立的方法已通过系统的方法学验证。该仪器能够有效检测碳化硅基体中的痕量杂质元素（如Al、Ca、Fe、Mg。方法验证结果表明，各元素的检出限、精密度、加标回收率（90%~105%）及线性相关系数均满足相关标准要求，能够满足高纯碳化硅纯度分析及质量控制的高要求。