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精准分析光刻胶光学性能，安捷伦Cary系列光谱仪大显身手
光刻是半导体制程中的关键步骤，随着微电子制造技术的发展，对光刻的精密度、复杂度的要求逐渐增高。在这一过程中，光刻胶作为光刻技术不可或缺的组成部分，其性能对光刻的最终效果起着至关重要的作用。光刻胶也叫光致抗蚀剂，是一种光敏材料，在特定波长光源的照射下会发生化学变化，如聚合或分解，可以将掩模版上的图案转印到晶圆表面。根据所使用的曝光波长的不同，半导体光刻胶可分为紫外宽光谱（300 - 450 nm）、G 线（436 nm）、I 线（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm）、EUV（13.5 nm）几种类型。
表 1. 光刻胶种类（按曝光波长分类）
光刻胶通常由光敏剂、树脂、聚合物单体、溶剂和其他助剂组成。其中，光产酸剂是各类化学增幅抗蚀剂的关键组分之一，可以增强抗蚀剂膜层的光照部分与非光照部分的溶解度差异反差，从而实现清晰的显影成像。研究发现，产酸源透明度的改善是提高 193 nm 光刻胶性质的关键因素之一。因此，研究产酸剂在溶剂和固体膜层中的透光性尤为重要。此外，透过率也是评估成品光刻胶膜的重要指标之一。
紫外可见分光光度计是评价样品透过率和反射率等光学性能的常用设备。安捷伦 Cary4000/5000/6000i 系列光谱仪，均可测试低至175nm的波长范围，且具有优异的光度稳定性和线性范围，在 193 nm、248 nm 这两个关键波长处具有优异的性能表现。
图 1. 193 nm 某样品 10 次测试重复性最大偏差优于 0.025 %
图 2. 248 nm 某样品 10 次测试重复性最大偏差优于 0.010 %
安捷伦 Cary4000/5000/6000i 系列光谱仪，使用简单便捷，坚实耐用，附件齐全，搭配液体支架可以测试液体胶水的透过率，通过固体样品支架还可以测试固体胶膜的透过率。
图 3. Cary4000/5000/6000i 系列光谱仪
图 6. Cary4000 测试固化于玻片上的光刻胶透过率
结论
安捷伦 Cary4000/5000/6000i 系列光谱仪光学性能卓越，具备极低的噪音和杂散光水平，对于挑战性的低波段具有优异的稳定性，其测试结果准确可靠，在光学测试领域有极高的市场认可度。
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