光谱仪使用之后如何有效清洗

2022年10月20日 08:59 来源：北京华科天成科技有限公司

　　ICP的基本结构包括：等离子体光源、进样系统、气体控制系统、光学系统、检测器和数据处理系统，每一部分又包括着不同的部件，如进样系统里的矩管、雾化器和雾室等。

　　光谱仪在使用之后应该如何有效清洗配件结构？

　　进样系统的清洗

　　1矩管的清洗

　　(1)盐分沉积——将矩管倒扣，放入装有1：1硝酸的烧杯中浸泡24小时，以除去矩管上的积盐；

　　(2)金属沉积——卸下石英矩管，将喷嘴进入热酸中(稀王水、硝酸或盐酸)中；

　　(3)碳沉积——将矩管放入750℃马弗炉中，打开马弗炉几秒钟，让空气进入，再次将温度升至750℃。重复几次以清除碳沉积，待马弗炉冷却后，再将石英矩管取出。清洗后，使用去离子水冲洗，吹干。

　　2雾室和雾化器的清洗

　　(1)玻璃混合雾化室的清洗

　　如果雾化室壁上有挂水珠，这些大液滴排出时，会引起雾化室内压力变化从而导致样品雾化效率降低。因此，可以拆除雾室，浸泡于10%左右的稀硝酸中，保持低温微沸煮半小时以上，再用去离子水清洗，吹干。

　　(2)雾化器堵塞的去除

　　①将进样管拆除，雾化器喷嘴朝上轻轻敲击以使颗粒物松散，并在重力作用下排出；

　　②在喷嘴处接入压缩空气(15~30psig)“反吹”喷嘴和环面，用手指堵住进样口和载气口，然后突然释放进样口以清除毛细管颗粒堵塞，或突然释放载气口以清除载气颗粒堵塞；

　　③在喷嘴处反向通入异丙醇，使颗粒物流出；

　　④气路中可能有PTEE碎屑时，将雾化器喷嘴浸到热水中，并在侧壁加压，热水使聚合物分散并从喷嘴排出；

　　⑤对于硅类颗粒堵塞，可使用3%~5%氢氟酸清洗，吸取清洗液5~10秒后，立即用大量清水冲洗，重复3~5次。注意：氢氟酸有毒性，使用时应戴好手套，做好防护措施，氢氟酸清洗的时间和浓度要准确控制，清洗后应*清除氢氟酸并使雾化器干燥，以防止氢氟酸对喷嘴处毛细管的腐蚀。

　　⑤切勿使用超声波清洗雾化器，因为毛细管中会有共振，碰到喷嘴的内壁会使毛细管口破裂，雾化器性能大大降低。

　　循环冷却水机清洗

　　冷却水的温度设置一般要比室温低5℃，每小时的温度变化不超过0.2℃，至少每半年进行一次清洗，清洗步骤如下：

　　①从仪器回流到冷水机的进水端处卸下管子；

　　②旋开排水口阀门，排净水箱中的水；

　　③在水箱中加入去离子水至水箱绿色和黄色刻线中间；

　　④旋上排水口阀门，接好进水端管子，打开电源，清洗系统。

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