二氧化硅双光束紫外可见分光光度计TU1901

（1）试样中含有酸不溶物，不能用盐酸溶解。需用无水Na2CO3烧结，用盐酸分解熔融块，如要求较高，则需用HF酸处理。（2）加入氯化铵的作用：加快脱水。因为强电解质对硅酸有盐析作用。且NH4+的存在可以降低胶体对其它阳离子的吸附量，而加热时NH4+可以挥发除掉。（3）脱水温度和时间：脱水温度不能超过110℃。如温度过高，某些氯化物会变成碱式盐，与硅酸反应生成硅酸盐。使测定结果偏高。如脱水温度低或脱水时间短，则脱水不完quan ，结果偏低。应用水浴加热。2023/10/21 10（4）洗涤：用热稀suanyan洗涤（防止沉淀中的盐类水解）3~4次后，再用热水洗涤至无氯离子。（5）沉淀灼烧：灼烧温度在950~1000 ℃之间。灼烧后的SiO2易吸水。（6）HF处理：如分析结果要求不高，可不必HF处理，也不需测定可溶性SiO2含量的测定。二者的影响大体可以相互抵消。

二氧化硅双光束紫外可见分光光度计TU1901

校准曲线的绘制4.2.3.1

用移液管量取二氧化硅标准溶液0.00mL(空白)、1.00mL、2.00mL、4.00 mL、6.00 mL、8.00 mL10.00mL,分别置于50mL比色管中,用水稀释至刻度。相对应的二氧化硅量分别为0.00mg、0.01mg、0.02mg、0.04 mg、0.06mg、0.08mg、0.10mg。加人1.00ml盐酸溶液和 2.00 ml 钼酸铵溶液,混匀,放置5min。加人1.50 mL草酸溶液,混匀。1 min后立即加人 2.00 mL1-氨基-2-萘酚-4-磺酸溶液,混匀,放置10min。使用分光光度计,以试剂空白为参比,在640nm波长处,用1cm比色皿测定吸光度。

以测得的吸光度为纵坐标,二氧化硅的量(mg)为横坐标,绘制校准曲线或计算回归方程。

也可根据待测物含量,调整校准曲线范围。

4.2.3.2 测定

用慢速滤纸过滤水样。用移液管量取一定量过滤后的水样,置于50ml比色管中,用水稀释至刻度。以下按4.2.3.1中“加人1.00mL盐酸溶液和……"操作。由校准曲线查得或按回归方程计算出二

氧化硅的质量。

4.2.4 试验数据处理

二氧化硅的含量以质量浓度p:计,数值以mg/L表示,按式(1)计算:p;=-x10*

式中:

m--根据测得的吸光度从校准曲线上查出或回归方程计算出的二氧化硅的量的数值,单位为毫克(mg);

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V-所取水样的体积的数值,单位为毫升(mL)。

计算结果表示到小数点后两位。